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          集成电路布图设计专有权公告(2019年1月30日)
          发布时间:2019-01-30

          布图设计登记号:BS.185551343
          布图设计申请日:2018年3月27日
          公告日期:2019年1月30日
          公告号:18103
          布图设计名称:XR-60L
          布图设计类别:
              结构:MOS
              技术:CMOS
              功能:其他
          布图设计权利人:深圳市新锐自动化设备有限公司
          布图设计权利人国籍:中国
          布图设计权利人地址:广东省深圳市宝安区福永街道白石厦社区永泰东路10号2栋3楼A区
          布图设计创作人:深圳市新锐自动化设备有限公司
          布图设计创作完成日:2017年10月11日


          布图设计登记号:BS.185551351
          布图设计申请日:2018年3月27日
          公告日期:2019年1月30日
          公告号:18104
          布图设计名称:YWKZ-1S
          布图设计类别:
              结构:MOS
              技术:CMOS
              功能:其他
          布图设计权利人:深圳市云威电路有限公司
          布图设计权利人国籍:中国
          布图设计权利人地址:广东省深圳市光明新区光明街道同富裕工?#30331;?#27901;浩工业园A栋4楼
          布图设计创作人:深圳市云威电路有限公司
          布图设计创作完成日:2017年8月18日


          布图设计登记号:BS.185552455
          布图设计申请日:2018年4月20日
          公告日期:2019年1月30日
          公告号:18105
          布图设计名称:55HV SRAM16M
          布图设计类别:
              结构:MOS
              技术:CMOS
              功能:存储
          布图设计权利人:上海华力集成电路制造有限公司
          布图设计权利人国籍:中国
          布图设计权利人地址:上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区?#30331;?#19996;路298号1幢1060室
          布图设计创作人:刘小玲
          代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
          代理人?#21644;?#20185;子
          布图设计创作完成日:2014年4月4日


          布图设计登记号:BS.185552471
          布图设计申请日:2018年4月20日
          公告日期:2019年1月30日
          公告号:18106
          布图设计名称:HL55LPPLL1500S2
          布图设计类别:
              结构:MOS
              技术:CMOS
              功能:其他
          布图设计权利人:上海华力集成电路制造有限公司
          布图设计权利人国籍:中国
          布图设计权利人地址:上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区?#30331;?#19996;路298号1幢1060室

          布图设计创作人:曹敏
          代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
          代理人?#21644;?#20185;子
          布图设计创作完成日:2015年12月15日


          布图设计登记号:BS.18555248X
          布图设计申请日:2018年4月20日
          公告日期:2019年1月30日
          公告号:18107
          布图设计名称:HL55FHBGR075C1V01
          布图设计类别:
              结构:MOS
              技术:CMOS
              功能:其他
          布图设计权利人:上海华力集成电路制造有限公司
          布图设计权利人国籍:中国
          布图设计权利人地址:上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区?#30331;?#19996;路298号1幢1060室

          布图设计创作人:沈超
          代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
          代理人?#21644;?#20185;子
          布图设计创作完成日:2016年8月1日


          布图设计登记号:BS.185552501
          布图设计申请日:2018年4月20日
          公告日期:2019年1月30日
          公告号:18108
          布图设计名称:HL55EFVD6215C1
          布图设计类别:
              结构:MOS
              技术:CMOS
              功能:其他
          布图设计权利人:上海华力集成电路制造有限公司
          布图设计权利人国籍:中国
          布图设计权利人地址:上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区?#30331;?#19996;路298号1幢1060室

          布图设计创作人:伍苹
          代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
          代理人?#21644;?#20185;子
          布图设计创作完成日:2016年12月12日


          布图设计登记号:BS.185552544
          布图设计申请日:2018年4月20日
          公告日期:2019年1月30日
          公告号:18109
          布图设计名称:HL55LEF096KSAV01
          布图设计类别:
              结构:MOS
              技术:CMOS
              功能:存储
          布图设计权利人:上海华力集成电路制造有限公司
          布图设计权利人国籍:中国
          布图设计权利人地址:上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区?#30331;?#19996;路298号1幢1060室

          布图设计创作人:朱静
          代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
          代理人?#21644;?#20185;子
          布图设计创作完成日:2016年6月1日


          布图设计登记号:BS.185552560
          布图设计申请日:2018年4月20日
          公告日期:2019年1月30日
          公告号:18110
          布图设计名称:HL40LPPLL0800C1V01
          布图设计类别:
              结构:MOS
              技术:CMOS
              功能:其他
          布图设计权利人:上海华力集成电路制造有限公司
          布图设计权利人国籍:中国
          布图设计权利人地址:上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区?#30331;?#19996;路298号1幢1060室

          布图设计创作人:曹敏
          代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
          代理人?#21644;?#20185;子
          布图设计创作完成日:2016年7月15日


          布图设计登记号:BS.185552595
          布图设计申请日:2018年4月20日
          公告日期:2019年1月30日
          公告号:18111
          布图设计名称:HL55FHBGRBUFC1V01
          布图设计类别:
              结构:MOS
              技术:CMOS
              功能:逻辑
          布图设计权利人:上海华力集成电路制造有限公司
          布图设计权利人国籍:中国
          布图设计权利人地址:上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区?#30331;?#19996;路298号1幢1060室

          布图设计创作人:励晨莹
          代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
          代理人?#21644;?#20185;子
          布图设计创作完成日:2016年8月26日

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